Halbleiterwafer-MEMSSiliziumwafer, Fotolack und andere Halbleitermaterialien mit einer Vielzahl von Metallfilm-/Nichtmetallfilm-Vakuumbeschichtungen, Lithografiemustern und Mikro-Nano-Ätzprozessen können in Siliziumwafern, Keramik, Glas, Saphir, flexiblen PET/PI-Materialien verwendet werden und andere Substrate werden lithographisch verarbeitet, und die minimale Liniengenauigkeit kann 1 um erreichen.